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Glas sinterfrei in 3D gedruckt

Ein am Karlsruher Institut für Technologie (KIT) entwickeltes Verfahren ermöglicht es nun nanometerfeine Strukturen aus Quarzglas auf Halbleiterchips zu drucken. Als Ausgangsmaterial für den 3D-Druck von Siliziumdioxid fungiert dabei als ein hybrides organisch-anorganisches Polymerharz.

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